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加工技術
   精密微細加工
   鏡面加工
   
 


商     号

創     業

代 表 者

資 本 金

所 在 地



取引銀行


サンリツテクノ株式会社

昭和45年7年

取締役社長  小島武次

15百万円

山梨県笛吹市石和町井戸211-4
TEL.055-263-7632
FAX.055-263-7527

東京三菱UFJ銀行
東日本銀行
山梨中央銀行
                            本社・工場



● スライサ● スピンドライヤ
● 精密スライサ(ダイサ)           ● 超音波洗浄機
● 横軸研削盤● エアープレス
● 横型ロータリ研削盤● 各種顕微鏡
● 平面研削盤● 微分干渉顕微鏡
● バレル研磨機● 面粗度測定器
● ラップ機● 非接触面粗度測定器
● ポリシング機● 非接触厚み測定器
● 球体研磨ポリシング機● 投影機
● NC縦型加工機● その他



昭和45年 7 月
 
創立
フェライトマグネットの委託加工業を目的とする 「三立金属工業所」 を発足
昭和48年 3 月
 
相模原市鹿沼台に工場を移転
オーディオ、ビデオ、FDDヘッド部品の委託加工を開始
昭和55年 4 月相模原市上溝に新工場落成
昭和55年10月
 
株式会社 設立
社名を 「三立磁気工業株式会社」 に変更
昭和63年 6 月
 
山梨県石和町に甲府工場を新設
相模原市上溝の本社工場と2工場体制へ
平成 2 年10月社名を 「サンリツテクノ株式会社」 へ変更
平成 3 年11月甲府工場の設備増強(設備投資1億円)
平成 5 年 7 月
 
ファインセラミックスへの鏡面研磨技術を確立
(鏡面加工にHDD用ヘッド部品の平坦化技術を応用)
平成 5 年11月
 
半導体関連事業に参入
ULSI用基板φ100×2μmtの膜圧コントロール研磨に着手
平成 6 年 3 月生産拠点を甲府工場に集約
平成 7 年 5 月ワックス洗浄剤 SRシリーズ を開発、販売開始
平成 7 年10月
 
オプトエレクトロニクス関連事業に参入
ファイバアレー用石英治具 など
平成 8 年 3 月ULSI用基板φ100×2μmt量産開始
平成 9 年 4 月
 
両面鏡面研磨
平行度1μm、平坦度1nm を確立    光アイソレータに応用
平成 9 年 7 月
 
ファインセラミックス 調厚技術
   製品基板 □20mm×20μmt を確立
平成10年 3 月
 
シンチレータ用単結晶(4面鏡面+ライミネート+上下面鏡面)
   CTスキャンヘッド加工へ適用
平成10年 9 月
 
精密微細加工
   金型・治具加工事業を拡大
平成11年 8 月
 
球体鏡面研磨加工
   ファインセラミックス球体 φ0.8mm~φ23mm
平成12年 5 月
 
MMC(金属基複合材料)加工
   切断・丸め・穴あけ・切削・鏡面研磨
平成13年 8 月
 
単結晶材料へ 溝深さ6.0mm、突起2.5μmW 微細深溝加工
   ランガサイト材 三次元素子
平成14年 9 月
 
セラミックス材へ溝ピッチ 90μmの微細ダイシング加工
   マイクロコネクタ用セラミックス治具
平成15年 6 月
 
φ150基板(ガラス材・Si材など)  20μmt調厚鏡面加工
   MEMS用基板 など
平成15年 8 月
 
セラミックス材成形加工
   オールセラミックス製インプラント(人工歯根)
平成16年10月
 
φ300セラミックス材 平面度コントロール精密研削加工
   半導体製造装置用 静電チャック など
平成17年 1 月本社を甲府工場へ移転